光刻机是干什么用的

光刻机(Mask Aligner),又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性...

文章标签:

本文链接:https://www.u1e.cn/baike/a/eb86823f3a51dd79d373259e [复制]

猜你喜欢

歇后语大全

还没有人回应过